한화모멘텀
All rights reserved.사업분야
진공기술, 열기술 및 자동화 기술을 기반으로 이차전지, 디스플레이,
클린물류, 공장자동화, 신재생에너지 산업을 영위하고 있으며,
고부가가치 사업 중심의 포트폴리오 확장, 해외시장 확대, 최첨단 장비의
개발, 생산 및 SW 역량 강화를 통하여 고객의 성장과 함께
메카트로닉스 산업을 선도하는 리더로 도약하고 있습니다.
클린물류
디스플레이/반도체 클린물류 장비는 클린 제조공정에 특화된 고청정 자동화 설비입니다. 물류 컨설팅, 설계, 설치, 사후관리 등 고객 니즈에 맞춰 최적환된 Total Solution을 제공하고 있습니다.
Clean Stocker (Glass Cassette)
디스플레이 클린 자동화 설비로 Glass Cassette를 저장/보관/반송 하는 설비이며 고객 요구 사양에 맞게 구현 가능한 장비입니다.
Spec
- Environment Cleanness : Class10~Class1000
- Pay Load : Max. 1,000kg
- Velocity : Max. 3.5m/sec
- Velocity : 1.5m/sec
- Acc/Dec : 0.75m/sec²
- Fork Loading Time : 11sec 이내
- Vibration : RMS 0.3 G 이하
BRC (OCS : Overhead Conveyor System)
디스플레이 클린 자동화 설비로 Glass Cassette를 물류 장비간 반송하는 설비이며 고객 요구 사양에 맞게 구현 가능한 장비입니다.
Spec
- Environment Cleanness : Class10~Class1000
- Pay Load : Max. 1,000kg
- Velocity : Max. 2m/sec
- Vibration : RMS 0.8 G 이하
Clean Lifter
디스플레이 클린 자동화 설비로 Glass Cassette를 층간별로 반송하는 설비이며 고객 요구 사양에 맞게 구현 가능한 장비입니다.
Spec
- Environment Cleanness : Class10~Class1000
- Pay Load : Max. 1,000kg
- Velocity : Max. 2.5m/sec
- Height : Max. 90m
OHT
디스플레이 클린 자동화 설비로 Tray를 물류 장비 및 공정 장비간 반송하는 설비이며, 고객 요구 사양에 맞게 구현 가능한 장비입니다.
Spec
- Environment Cleanness : Class10~Class1000
- Pay Load : Max. 70kg
- Velocity : Max. 3.5m/sec
- Acc/Dec : 1.5m/sec²
- Vibration : RMS 0.8 G 이하
Clean Stocker (Wafer FOUP & FOSB & POD)
반도체 클린 물류 설비로 Wafer FOUP, FOSB, POD를 저장/분류 하는 Auto Storage System으로 반도체 공정별 요구 사양에 맞는 Chamber Type, Rack Type 등 다양한 형태로 구현 가능합니다.
Spec
- Environment Cleanness : Class1 ~ Class1000
- Velocity : 1.5m/sec
- Acc/Dec : 2.5m/sec²
- Vibration : RMS 0.5 G 이하
- Purge : 상시 PN2 Purge 구성
- Environment Control : Humidity, Temperature, Pressure, oxygen concentration
Tower Lifter
반도체 클린 물류 설비로 반도체 Wafer FOUP & FOSB을 각 층별로 이송하는 Auto Lift & Storage System 입니다.
Spec
- Lifting Stroke : Max 60m
- Lift Velocity : 360m/min
- Fork Loading Time : 3sec 이내
- Acc/Dec : 2m/sec²
- Vibration : RMS 0.8 G 이하
OHT
반도체 클린 자동화 설비로 Wafer FOUP, FOSB, POD, Glass FOUP를 물류 장비 및 공정 장비간 반송하는 설비이며, 고객 요구 사양에 맞게 구현 가능한 장비입니다.
Spec
- Environment Cleanness : Class10~Class1000
- Pay Load : 10~70kg
- Velocity : Max. 3.5m/sec
- Acc/Dec : 1.5m/sec²
- Vibration : RMS 0.8 G 이하
EFEM
반도체 클린 물류 설비로 반도체 Wafer를 FOUP & FOSB에서 공정 장비로 반송하는 설비이며, 고객 요구 사양에 맞게 구현 가능한 장비입니다.
Spec
- Environment Cleanness : Class10~Class1000
- Velocity : 0.7m/sec
- Rotate : 240°/sec
Cleaner
디스플레이/반도체 제조 공정에서 기판 위의 불순물을 제거하는 설비이며, 고객 요구 사양에 맞게 구현 가능한 장비입니다.
특장점
- Oxide Blocking
- Cleaning Uniformity
- Temperature Control
- Utility 소모량 최소화
- Safety
Developer
디스플레이/반도체 제조 공정에서 노광 된 PR을 현상하는 설비이며, 고객 요구 사양에 맞게 구현 가능한 장비입니다.
특장점
- Develop Fume Blocking
- Develop Uniformity
- Temperature Control
- Utility 소모량 최소화
- Safety
Stripper
디스플레이/반도체 제조 공정에서 기판 위에 남아있는 PR을 제거하는 설비이며, 고객 요구 사양에 맞게 구현 가능한 장비입니다.
특장점
- Strip Fume Blocking
- Strip & Remove Uniformity
- Temperature Control
- Utility 소모량 최소화
- Safety